Titanium Silisida, Titanium disilicide (TiSi2) adalah senyawa kimia anorganik titanium dan silikon. Disilisida titanium memiliki keunggulan resistivitas rendah, ketahanan suhu tinggi, dan stabilitas yang baik, yang dapat digunakan secara luas dalam mikroelektronika, bahan dan bahan pelapis tahan suhu tinggi penerbangan, dan bidang lainnya.
Aplikasi dariBubuk Titanium Silisida (TiSi₂).
- Industri semikonduktor: Banyak digunakan dalam pembuatan gerbang, sumber, saluran air, interkoneksi dan kontak ohmik dalam teknologi MOS, MOSFET dan DRAM. Ini meningkatkan kinerja kelistrikan dan keandalan perangkat semikonduktor canggih.
- Lapisan Penghalang: Digunakan untuk membuat lapisan penghalang silisida titanium pada perangkat elektronik. Hal ini meningkatkan stabilitas proses, mengurangi kerugian etsa pada lapisan penghalang, dan menurunkan biaya produksi.
- Komposit yang diperkuat: Komposit Titanium₃Aluminium Karbida (Ti₃AlC₂) dengan partikel Titanium₅Silicon₃ ditambahkan untuk meningkatkan kekuatan mekanik dan ketahanan suhu tinggi.
- Pelapis Fungsional Kaca: Diterapkan sebagai pelapis komposit pada kaca untuk meningkatkan kekuatan mekanik, ketahanan terhadap korosi, peredupan, dan sifat isolasi termal. Ketika dikombinasikan dengan silikon, karbon atau nitrogen, lapisan multifungsi canggih seperti silikon karbida, titanium karbida, dan titanium nitrida dapat terbentuk.
- Komponen elektronik: untuk komponen semikonduktor.
Mengapa memilih kami?
Gneechemadalah pedagang bahan kimia global yang tepercaya, menawarkan bahan baku kimia dan bahan nano berkualitas sangat tinggi. Perusahaan ini telah lulus sertifikasi sistem manajemen mutu ISO9001 dan telah dianugerahi banyak kualifikasi otoritatif di dalam dan luar negeri.